1 高精量微纳米打印机

SonoPlot 是柔性印刷电子行业内知名的微纳米材料沉积喷墨系统，广泛用于制备可控电极薄膜、聚合物光电器件、不同材料的多重构筑以及定位定量微纳修补等应用领域。超声谐振方式可以完美解决传统压电式喷墨打印技术线宽受限的问题。特征尺寸 20-200um，可打印基片，金属，硅片，玻璃，塑料等。

 高精量微纳米打印机

2 台式扫描电镜

飞纳电镜能谱一体机 Phenom ProX 是终极的集成化成像分析系统，分辨率提升 20%，进一步增加应用范围，更加适用于对电子束敏感的样品。借助该系统，既可观察样品的表面形貌，又可分析其元素组分。能谱仪是一种基于样品被电子束激发而产生 X 射线的分析仪器。Phenom 的能谱仪无论软件、硬件都是完全集成设计在飞纳电镜能谱一体机 Phenom ProX 系统中。Element Identification (EID) 软件可以使用户实现多点分析，检测样品的元素组分。此外，该软件还可以扩展到元素分析线面扫（mapping）功能。分步操作界面可以帮助用户更方便地收集、导出分析数据。

台式扫描电镜

3 脉冲激光沉积系统PLD

由Twente Solid State Technology TSST B.V.公司研发，利用KrF准分子激光激发靶材，可在高真空条件下（~10^-9mbar）于宽温区内（<950℃）生长氧化物薄膜。该系统也可以根据不同的需求，提供不同的生长气氛。可以精确控制制备样品的组分。PLD生长样品具有以下优势：易获得期望化学计量比的多组分薄膜，即具有良好的保成分性；沉积速率高，试验周期短，衬底温度要求低，制备的薄膜均匀；工艺参数任意调节，对靶材的种类没有限制；发展潜力巨大，具有极大的兼容性；便于清洁处理，可以制备多种薄膜材料。

脉冲激光沉积系统

4 准分子激光器

220V 248nm,单脉冲700mJ属于冷激光，无热效应，方向性强、波长短（紫外），纯度高、输出功率大，脉冲宽度短。在脉冲沉积镀膜（PLD）过程中，强脉冲激光作用下的靶材物质聚集态迅速发生变化，成为新的状态而跃出，直达基片表面凝结成薄膜。

准分子激光器

5 半导体参数测试仪

4200A-SCS 是一种全面集成的参数分析仪，可以同步查看电流电压(I-V)、电容电压(C-V) 和超快速脉冲式I-V 特性。± 210 V/100 mA 或 ± 210 V/1 A 模块；100fA测量分辨率；配前端放大器提供了 10 nA分辨率。

半导体参数测试仪

6 Oxford 低温强磁场系统

由于其杜瓦内部的优化设计，使得Oxford系统完全不需要液氦等任何制冷剂，系统使用一个二级脉冲管制冷机同时为超导磁体和样品测量提供超低振动的低温环境。并且系统主机就已经集成了产生<10^-4Torr高真空的冷泵，从而能与外部的测量仪表，以及不同的插杆进行兼容。最低温温度在1.5k，如果和稀释制冷剂互联可以将腔体温度降到30-40 mk。该系统的升降温可以达到2k/min，磁体最高可达14T

Oxford 低温强磁场系统 

7 紫外光刻机

恩科优N&4000光刻机该系统优越的操作性，超高的分辨率，均匀的光学系统，现代先进的接近式和接触式光刻及超高的性价比，

技术参数

1、芯片尺寸：5mm~200mm的圆片/方片和不规则碎片（支持对不规则碎片的特殊卡盘设计）；

2、曝光波长：350nm-450nm（其它波长可选配）；

3、汞灯功率：350W/500W（其它功率可选配）；

4、分辨率：优于0.5um；

5、曝光模式：支持接近式曝光，各种接触式（真空接触、软接触、硬接触等）曝光；

6、出射光强范围：10mW/cm2~55mW/cm2@405nm；

7、支持恒定光强或恒定功率模式；

8、曝光时间：0.1~999.9s；

9、对准精度：双高清彩色CCD + 双高清彩色监视器，对准精度可达到0.4微米内；

10、掩膜尺寸：2 x 2英寸到 9 x 9英寸(2 x 2英寸需要掩膜转换器)。 

光刻机（紫外光刻机）