1.扫描探针显微镜

原子力显微镜(Atomic Force Microscope, AFM)

品牌：美国Asylum Research

型号：MFP-3D-SA

主要功能：可以在大气和液体环境下对各种材料和样品进行形貌进行探测(AFM)、材料压电性能的测试(PFM)以及磁畴的扫描(MFM)等。具备多种扫描模式，包括接触式、非接触式和轻敲式，扫描范围可达80um×80um, 扫描频率1Hz。

扫描探针显微镜

2.快速退火炉

品牌：法国Annealsys

型号：AS-Micro

主要功能：快速热退火，离子注入后退火，化合物半导体退火，结晶和致密化

主要参数：

炉膛最高温度1250℃

工作室尺寸：700*700*700mm

基片尺寸：最大3

工艺气路：最多配4条工艺气路

 快速退火炉

3.超高真空溅射系统

品牌：沈阳科诚

用于激光脉冲沉积的真空腔体

主要参数：

最高加热温度：950℃

真空：1×10^-5 ~ 1atm

超高真空溅射系统

4.超高真空激光分子束外延机

品牌：荷兰TSST

主要用于制备各种复杂氧化物外延薄膜和超晶格

主腔体背底真空优于5x10-8 mbar（未烘烤），经过>48小时烘烤后背底真空度可以优于5x10-9 mbar

配备电阻加热系统（最高加热温度900°C）和激光加热系统（最高加热温度1300°C）

配备程序自动控制转靶系统。

 超高真空激光分子束外延机

5.准分子激光器

品牌及型号：Coherent COMPexPro 102F

以准分子为工作物质的一类气体激光器件

 准分子激光器

6.高氧压RHEED（反射式高能电子衍射仪）（跟超高真空激光分子束外延机是一起的）

品牌：德国STAIB

配备于超高真空激光分子束外延机，用于薄膜生长中的表面分析，例如监控薄膜的生长模式，薄膜厚度等。

电子枪能量：30keV

高性能电子枪：高亮度、小斑点、低分散、极低放气率

高氧压RHEED（反射式高能电子衍射仪）

 7.磁控溅射系统（磁控发生器+测控真空加热仪）

品牌和型号：德仪科技DE500

DE500磁控溅射仪主要包括溅射腔体、6个溅射源和一个样品台可装载并溅射最大两英寸样品，系统极限真空度10-8torr，可以溅射半导体、金属及介质材料，可以维持很低的溅射气压因此可以溅射非常薄的膜层。

最大承受DC功率300W，最大承受RF功率150W，加热器最高温度900℃

 磁控溅射系统

8.高精度电容电桥
 品牌及型号：美国Andeen-Hagerling, AH2700A
 AH2700A以其最先进的独特技术，在稳定度、分辨率、线性度和准确度方面成为世界上最优秀的多频电容电桥和损耗电桥。它的这些优点正在帮助从计量、科学研究到工程技术和工业生产各个领域的顾客不断开创出新的应用。

关键参数：

频率KHz     准确度ppm        稳定性ppm/年    温度系数ppm/℃    分辨率aF       0.1       ±9              <±1.9      ±0.07              16           

1          ±5              <±1.0      ±0.035               0.8        

10        ±11            <±1.9      ±0.07              2.4       

AH2700A的典型应用:

·超微小位移，形变或应变测量

·高交流阻抗测量

·辐射引起的物质特性改变

·各种绝缘介质的特性研究

·电容性传感器的超高灵敏度测量

·精密电感测量

·电容性传感器的研制和生产

 高精度电容电桥

9.X射线衍射仪

品牌及型号：Rikagu SmartLab 9kW

Introduction:

Rigaku SmartLab 9 kW is a general purpose XRD system which can be used in diffraction studies of powders, thin films, and solid objects with various sizes. System has a unique five-axis θ-θ goniometer which enables many kinds of diffraction experiments. Detector arm of the diffractometer can be rotated perpendicularly related to the out-of-plane diffraction plane which enables diffraction studies of the crystal planes which are perpendicular to the plane of the specimen (e.g. ultra-thin films) and also in-plane texture measurements in which the specimen does not need to be tilted.

System is also equipped with high-temperature furnace. XRD measurements can be performed in the temperature range between RT and 1100 °C in air, vacuum, and nitrogen/argon atmospheres. In-plane texture measurements in high temperatures are also possible.

Features:

• Computer controlled instrument with high level of automation

• High performance XRD system with 9 kW rotating anode x-ray generator

• Anodes: Cu

• Cross Beam Optics (CBO): Parallel Beam (PB) and Bragg-Brentano (BB) optics

• CBO-f Polycapillary Microfocus Optics for CBO (400 µm x-ray spot)

• Detectors: 1D solid state detector and scintillator

• Vertical θ/θ 4-circle goniometer with Eulerian cradle

• The in-plane diffraction measurement option for measuring of planes perpendicular to the sample surface. Optimal e.g . analysis of ultra thin films.

• Anton Paar DHS1100 furnace for in-situ XRD experiments (RT-1100 ⁰C)

• Atmospheres: Air, Ar, N2, vacuum

• Software: SmartLab Guidance (diffractometer control software), PDXL2 (Analysis incl. Rietveld), ICDD PDF4+ 2015 (database of powder diffraction patterns), 3DExplore (Texture analysis)

X射线衍射仪

10.磁学测量系统MPMS3(磁学测量仪)

美国Quantum Design 公司，型号MPMS3

主要运用于各种材料的磁学性能测量。

MPMS3系统技术参数:

               温度区间：     1.9~400 K 连续控制

               降温速度：     30 K/min 300 K>T>10 K                   10 K/min 10 K>T>1.8 K

 　　        样品腔内径：      9 mm 　　

               磁场强度：      ±7 特斯拉

        　    磁场均匀度：     4 cm 范围内达到 0.01% 　 

               励磁速度：      最大700 Oe/s 　

               样品振动范围：  0.1-8 mm (峰值)

               最大测量磁矩：  10 emu 　                 

               测量灵敏度：   <1×10-8 emu  H＝0 T (10秒测量时间) 
                                          <8×10-8 emu  H＝7 T (10秒测量时间)


磁学测量系统MPMS3(磁学测量仪)